圖稿/CAD：將客戶提供的圖紙或數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換并輸入到CAD系統(tǒng)，基于數(shù)據(jù)將^的圖像激光繪制到感光膜或照相玻璃板上，繪制的圖案被嚴(yán)格檢查并傳遞到UV曝光過程。
  
  金屬清潔：對(duì)金屬進(jìn)行脫脂和清潔以除去油污和污染物，以便與光敏抗蝕劑具有良好的粘附性。
  
  光刻膠涂層和層壓：在潔凈室中均勻涂抹UV光敏抗蝕劑膜。
  
  曝光：將涂有光敏抗蝕劑膜的金屬夾在藝術(shù)品照相工具之間，然后從上下兩面曝光UV光以將圖像轉(zhuǎn)印到抗蝕劑膜上，在潔凈室內(nèi)操作此過程以避免灰塵或異物。
  
  開發(fā)：化學(xué)去除非紫外線曝光區(qū)域的抗蝕膜。另外，抗蝕劑涂布區(qū)域被加熱以提高耐酸性。
  
  蝕刻：在此過程中使用控制蝕刻劑和溫度的自動(dòng)蝕刻機(jī)，金屬暴露區(qū)域被蝕刻掉，并且金屬被形成為圖中指定的所需形狀。
  
  剝離：蝕刻后，所有殘留在金屬板上的抗蝕劑膜被去除，部件被純凈水清洗后傳遞到檢測(cè)過程。
  
  檢測(cè)：光刻部件預(yù)計(jì)非常準(zhǔn)確，通過尺寸和外觀檢查來(lái)控制^佳質(zhì)量。